Systems and methods for image enhancement for a multi-beam charged-particle inspection system

WO2020200958 Art A1 8. Oktober 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020200958
Aktenzeichen: EP20712381
Anmeldetag: 25. März 2020
Veröffentlichung: 8. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28H01J37/22G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Software & Datenverarbeitung

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