Method and apparatus for predicting substrate image

WO2020200993 Art A1 8. Oktober 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020200993
Aktenzeichen: EP20715025
Anmeldetag: 26. März 2020
Veröffentlichung: 8. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G06N3/02G06N3/08G06N3/04G06N20/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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