Methods for fabricating and transporting package of sputtering target
WO2020202603
Art A1
8. Oktober 2020
Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020202603
- Aktenzeichen
- EP19922234
- Anmeldetag
- 20. September 2019
- Veröffentlichung
- 8. Oktober 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34B65B31/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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