Sputtering target and method for manufacturing sputtering target

WO2020202604 Art A1 8. Oktober 2020

Anmelder: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020202604
Aktenzeichen: EP19923164
Anmeldetag: 20. September 2019
Veröffentlichung: 8. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/10C04B35/00C22C1/05C22C5/04C22C19/07C22C30/00C22C32/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von