Sputtering target member, sputtering target, method for producing sputtering target member, and method for producing sputtering film

WO2020202649 Art A1 8. Oktober 2020

Anmelder: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020202649
Aktenzeichen: EP19923394
Anmeldetag: 10. Dezember 2019
Veröffentlichung: 8. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/04C04B35/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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