Mask blank substrate, substrate with multi-layer reflective coating, reflection-type mask blank, reflection-type mask, transmission-type mask blank, transmission-type mask, and semiconductor device production method

WO2020203338 Art A1 8. Oktober 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020203338
Aktenzeichen: EP20783625
Anmeldetag: 19. März 2020
Veröffentlichung: 8. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C03C17/36G03F1/20G03F1/24G03F1/32G03F1/38G03F1/46G03F1/48G03F1/60G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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