Composition for resist underlayer, and pattern forming method using same

WO2020204431 Art A1 8. Oktober 2020

Anmelder: SAMSUNG SDI CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020204431
Aktenzeichen: EP20783396
Anmeldetag: 23. März 2020
Veröffentlichung: 8. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/20G03F7/26G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SAMSUNG SDI CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Samsung SDI

Südkoreanisches Unternehmen der Samsung-Gruppe, das Batterien und Energiespeichersysteme für Elektrofahrzeuge, Elektronikgeräte und stationäre Anwendungen entwickelt und produziert.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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