Method and apparatus for forming a patterned layer of material

WO2020207759 Art A1 15. Oktober 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020207759
Aktenzeichen: EP20711945
Anmeldetag: 20. März 2020
Veröffentlichung: 15. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04C23C16/26C23C16/30C23C16/48C23C16/56G03F1/22G03F7/20H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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