Silicon oxide film, material for gas barrier film, and method for manufacturing silicon oxide film

WO2020209202 Art A1 15. Oktober 2020

Anmelder: SAGAMI CHEMICAL RESEARCH INSTITUTE, TOSOH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020209202
Aktenzeichen: EP20787084
Anmeldetag: 3. April 2020
Veröffentlichung: 15. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/42B32B9/00B32B27/00C07F7/18C23C16/18C23C16/505

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SAGAMI CHEMICAL RESEARCH INSTITUTE
TOSOH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

1.003 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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