Verfahren zum Konditionieren einer Substratbehandlungseinrichtung und eine Diesbezügliche Vorrichtung

WO2020212320 Art A1 22. Oktober 2020

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020212320
Aktenzeichen: EP20721163
Anmeldetag: 14. April 2020
Veröffentlichung: 22. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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