Vapor deposition source and vapor deposition device

WO2020213228 Art A1 22. Oktober 2020

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020213228
Aktenzeichen: EP20791642
Anmeldetag: 4. Februar 2020
Veröffentlichung: 22. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24H05B33/10H01L51/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

444 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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