Production method for monocrystalline silicon wafer and monocrystalline silicon wafer

WO2020213230 Art A1 22. Oktober 2020

Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020213230
Aktenzeichen: EP20791450
Anmeldetag: 5. Februar 2020
Veröffentlichung: 22. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C30B33/02H01L21/322C30B29/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.180 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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