Liquid discharge device and liquid discharge system
WO2020217527
Art A1
29. Oktober 2020
Anmelder: SHISEIDO COMPANY, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020217527
- Aktenzeichen
- EP19926593
- Anmeldetag
- 26. April 2019
- Veröffentlichung
- 29. Oktober 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B05C11/10B05C5/00G06K17/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHISEIDO COMPANY, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shiseido
Japanisches Kosmetik- und Körperpflegeunternehmen mit Sitz in Tokio, gegründet 1872, eines der ältesten und größten Kosmetikunternehmen der Welt.
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Vertreten von
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