System for specifying defect cause in vapor deposition mask, method for specifying defect cause in vapor deposition mask, and program

WO2020218396 Art A1 29. Oktober 2020

Anmelder: TOPPAN INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020218396
Aktenzeichen: EP20794344
Anmeldetag: 23. April 2020
Veröffentlichung: 29. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOPPAN INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von