Compound, resin, composition, method for forming resist pattern, method for forming circuit pattern and purification method
WO2020218599
Art A1
29. Oktober 2020
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020218599
- Aktenzeichen
- EP20796047
- Anmeldetag
- 27. April 2020
- Veröffentlichung
- 29. Oktober 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07D311/96G03F7/004G03F7/039G03F7/11G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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