Method for producing ferroelectric film, ferroelectric film, and usage thereof

WO2020218617 Art A1 29. Oktober 2020

Anmelder: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020218617
Aktenzeichen: EP20795568
Anmeldetag: 27. April 2020
Veröffentlichung: 29. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/08C01G27/00C01G27/02C23C14/34C30B23/08C30B29/16H01B3/00H01L21/316H01L27/11507H01L27/1159H01L41/09H01L41/113H01L41/187H01L41/316

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Institute of Technology

Japanische technische Universität in Tokio mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Seit 2024 firmiert sie im Zuge einer Fusion als Institute of Science Tokyo.

1.018 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von