Moisture barrier film having low refraction index and low water vapor tramission rate

WO2020219087 Art A1 29. Oktober 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020219087
Aktenzeichen: EP19926542
Anmeldetag: 10. Juli 2019
Veröffentlichung: 29. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L51/52H01L51/56H01L27/32H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von