High Temperature Heating Of A Substrate in A Processing Chamber

WO2020219408 Art A1 29. Oktober 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020219408
Aktenzeichen: EP20794970
Anmeldetag: 21. April 2020
Veröffentlichung: 29. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/48C23C16/505C23C16/458C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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