Low temperature route for epitaxial integration of perovskites on silicon

WO2020223338 Art A1 5. November 2020

Anmelder: DREXEL UNIVERSITY, THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020223338
Aktenzeichen: EP20798850
Anmeldetag: 29. April 2020
Veröffentlichung: 5. November 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/027H01L21/033H01L21/8248H01L21/8249H01L21/8238

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: DREXEL UNIVERSITY
THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Drexel University

Die Drexel University ist eine private Universität in Philadelphia, USA, mit breit gefächerter technischer und medizinischer Forschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Halbleiter- und Werkstofftechnik, ergänzt durch Mess- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

481 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 Penn State Research Foundation

Non-Profit-Organisation zur Verwertung von geistigem Eigentum der Pennsylvania State University (USA), die Patente aus der Universitätsforschung verwaltet und lizenziert.

1.020 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von