Compound and production method thereof, resin, composition, resist film, pattern forming method, underlayer film for lithography, optical component, and method for purifying compound or resin

WO2020226150 Art A1 12. November 2020

Anmelder: THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY, MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020226150
Aktenzeichen: EP20802029
Anmeldetag: 7. Mai 2020
Veröffentlichung: 12. November 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07D329/00C07D343/00C07D345/00C08K5/23C08K5/5415G03F7/023G03F7/11G03F7/20C08G79/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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