Breast implant having metallized surface by selective plasma etching method, and manufacturing method therefor

WO2020226191 Art A1 12. November 2020

Anmelder: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION, GENOSS CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020226191
Aktenzeichen: EP19928116
Anmeldetag: 3. Mai 2019
Veröffentlichung: 12. November 2020
Rechtsraum: WO
IPC: A61L27/30A61F2/12A61F2/00A61L27/14C23C14/20C23C14/34C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION
GENOSS CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul National University R&DB Foundation

Technologietransfer- und Forschungsförderungsstiftung der Seoul National University in Südkorea. Sie verwaltet und vermarktet die an der Universität entstandenen Forschungsergebnisse und Patente.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit Metallurgie & Oberflächentechnik

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