Method for forming carbon rich silicon-containing films

WO2020227505 Art A1 12. November 2020

Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020227505
Aktenzeichen: EP20801798
Anmeldetag: 7. Mai 2020
Veröffentlichung: 12. November 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02C23C16/30C23C16/455C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ENTEGRIS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

1.106 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen