Mirror for use in a lithographic apparatus

WO2020234043 Art A1 26. November 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020234043
Aktenzeichen: EP20724140
Anmeldetag: 12. Mai 2020
Veröffentlichung: 26. November 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/09G02B5/18G03F7/20G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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