Process for preparing a block copolymer film intended for creating a nanolithography mask
Anmelder: ARKEMA FRANCE, UNIVERSITE DE BORDEAUX, INSTITUT POLYTECHNIQUE DE BORDEAUX, CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE, UNIVERSITE GRENOBLE ALPES 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020234549
- Aktenzeichen
- EP20739742
- Anmeldetag
- 20. Mai 2020
- Veröffentlichung
- 26. November 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ARKEMA FRANCE
UNIVERSITE DE BORDEAUX
INSTITUT POLYTECHNIQUE DE BORDEAUX
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
UNIVERSITE GRENOBLE ALPES - Land
- 🇫🇷 Frankreich
Französischer Chemiekonzern mit Sitz bei Paris. Arkema entwickelt Spezialchemikalien, Hochleistungspolymere, Klebstoffe und Beschichtungsmaterialien für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Konsumgüter.
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