Variable resistance device and method for producing same

WO2020235591 Art A1 26. November 2020

Anmelder: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020235591
Aktenzeichen: EP20810597
Anmeldetag: 20. Mai 2020
Veröffentlichung: 26. November 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07D401/14H01L45/00H01L49/00H01L21/8239H01L27/105H01L51/05H01L51/30

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Institute of Technology

Japanische technische Universität in Tokio mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Seit 2024 firmiert sie im Zuge einer Fusion als Institute of Science Tokyo.

1.018 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Organische Chemie

Vertreten von