Reflective mask blank for euv lithography
WO2020235612
Art A1
26. November 2020
Anmelder: AGC INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020235612
- Aktenzeichen
- EP20810510
- Anmeldetag
- 20. Mai 2020
- Veröffentlichung
- 26. November 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/24G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AGC INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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