Apparatus for heat treatment, substrate processing system and method for processing a substrate
WO2020239193
Art A1
3. Dezember 2020
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020239193
- Aktenzeichen
- EP19727339
- Anmeldetag
- 24. Mai 2019
- Veröffentlichung
- 3. Dezember 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/50C23C14/56C23C16/458C23C16/46H01L21/67H05B6/10H01L21/687
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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