Lithographic apparatus, substrate table, and method
WO2020239373
Art A1
3. Dezember 2020
Anmelder: ASML HOLDING N.V., ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020239373
- Aktenzeichen
- EP20724468
- Anmeldetag
- 5. Mai 2020
- Veröffentlichung
- 3. Dezember 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20H01L21/687
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML HOLDING N.V.
ASML NETHERLANDS B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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