Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern and compound

WO2020241277 Art A1 3. Dezember 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020241277
Aktenzeichen: EP20814474
Anmeldetag: 14. Mai 2020
Veröffentlichung: 3. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/22G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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