Film forming composition, resist underlayer film, film forming method, resist pattern forming method, organic underlayer film reverse pattern forming method, method for producing film forming composition, and metal-containing film pattern forming method

WO2020241712 Art A1 3. Dezember 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020241712
Aktenzeichen
EP20812919
Anmeldetag
27. Mai 2020
Veröffentlichung
3. Dezember 2020
Rechtsraum
WO
IPC
C09D5/00G03F7/11G03F7/20G03F7/26G03F7/40H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Firma
JSR CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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