Polishing pad having pattern structure formed on polishing surface, polishing device including same, and method for manufacturing polishing pad

WO2020242110 Art A1 3. Dezember 2020

Anmelder: KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020242110
Aktenzeichen
EP20815426
Anmeldetag
19. Mai 2020
Veröffentlichung
3. Dezember 2020
Rechtsraum
WO
IPC
B24B37/26B24B37/22H01L21/67
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Korea Institute of Industrial Technology

Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.

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