Chemical Mechanical Polishing Pad Having Pattern Structure
WO2020242172
Art A1
3. Dezember 2020
Anmelder: KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020242172
- Aktenzeichen
- EP20813257
- Anmeldetag
- 26. Mai 2020
- Veröffentlichung
- 3. Dezember 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/26B24B37/22H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Korea Institute of Industrial Technology
Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.
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