Independently Adjustable Flowpath Conductance in Multi-Station Semiconductor Processing

WO2020247966 Art A1 10. Dezember 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020247966
Aktenzeichen: EP20817836
Anmeldetag: 22. Mai 2020
Veröffentlichung: 10. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/54C23C16/455C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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