Air film for chemical mechanical polishing head, chemical mechanical polishing head, and polishing device

WO2020253869 Art A1 24. Dezember 2020

Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020253869
Aktenzeichen: EP20826763
Anmeldetag: 22. Juni 2020
Veröffentlichung: 24. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/04B24B37/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TSINGHUA UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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