Method for purifying compound that generates acid when irradiated with active light or radiation, method for producing active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, and method for producing electronic device

WO2020255585 Art A1 24. Dezember 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020255585
Aktenzeichen: EP20827259
Anmeldetag: 12. Mai 2020
Veröffentlichung: 24. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07C381/12C07C303/44C07C309/10C07C309/12C07C309/17C07C309/19C07C309/65C07C311/51C07D275/06C09K3/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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