Composition for forming resist underlayer film capable of wet etching, containing heterocyclic compound having dicyanostyryl group

WO2020255984 Art A1 24. Dezember 2020

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020255984
Aktenzeichen: EP20826868
Anmeldetag: 17. Juni 2020
Veröffentlichung: 24. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/42H01L21/027C07D251/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von