Dicyanostyryl group-containing composition for forming wet-etchable resist underlayer film

WO2020255985 Art A1 24. Dezember 2020

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020255985
Aktenzeichen: EP20827494
Anmeldetag: 17. Juni 2020
Veröffentlichung: 24. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/42H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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