Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask and semiconductor device
WO2020256062
Art A1
24. Dezember 2020
Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020256062
- Aktenzeichen
- EP20827203
- Anmeldetag
- 18. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 24. Dezember 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HOYA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
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