Top buffer layer for magnetic tunnel junction application

WO2020256884 Art A1 24. Dezember 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020256884
Aktenzeichen: EP20825903
Anmeldetag: 21. Mai 2020
Veröffentlichung: 24. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L43/02H01L43/10H01L43/12H01L43/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von