High density plasma cvd microcrystalline or amorphous si film for display

WO2020257003 Art A1 24. Dezember 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020257003
Aktenzeichen: EP20826126
Anmeldetag: 9. Juni 2020
Veröffentlichung: 24. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L29/66H01L27/12C23C16/24C23C16/505C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von