In einem Cvd-Reaktor Verwendbares Flaches Bauteil

WO2020260449 Art A1 30. Dezember 2020

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020260449
Aktenzeichen: EP20734909
Anmeldetag: 25. Juni 2020
Veröffentlichung: 30. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C30B25/08C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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