Photosensitive resin composition, patterned resin film and method for manufacturing same, and semiconductor circuit board

WO2020261979 Art A1 30. Dezember 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020261979
Aktenzeichen: EP20833254
Anmeldetag: 9. Juni 2020
Veröffentlichung: 30. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08K5/13C08K5/42C08L101/02G03F7/004G03F7/038G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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