Purification method for actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern-forming method, and production method for electronic device

WO2020262134 Art A1 30. Dezember 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020262134
Aktenzeichen: EP20832057
Anmeldetag: 17. Juni 2020
Veröffentlichung: 30. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07C25/18C07C381/12C07D217/08C07D327/04C07D327/06C07D333/46C07D411/06C07D493/18G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20G03F7/26C07D295/26H01L21/027C07D285/15

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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