Vapor cleaning of substrate surfaces

WO2020263766 Art A1 30. Dezember 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020263766
Aktenzeichen
EP20833123
Anmeldetag
23. Juni 2020
Veröffentlichung
30. Dezember 2020
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/02H01L21/67C11D7/26C11D7/28C11D7/30C11D7/32C11D11/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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