Vapor cleaning of substrate surfaces
WO2020263766
Art A1
30. Dezember 2020
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020263766
- Aktenzeichen
- EP20833123
- Anmeldetag
- 23. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 30. Dezember 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02H01L21/67C11D7/26C11D7/28C11D7/30C11D7/32C11D11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
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