Methods for producing hollow silica particles

WO2020263820 Art A1 30. Dezember 2020

Anmelder: UT-BATTELLE, LLC, SHARMA, Jaswinder Kumar 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020263820
Aktenzeichen: EP20833322
Anmeldetag: 23. Juni 2020
Veröffentlichung: 30. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/12C01B33/18C08J7/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: UT-BATTELLE, LLC
SHARMA, Jaswinder Kumar
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 UT-Battelle

UT-Battelle ist der Betreiber des Oak Ridge National Laboratory in den USA, ein Gemeinschaftsunternehmen der University of Tennessee und des Battelle Memorial Institute. Das Patentportfolio deckt breit Halbleiterbauelemente, Mess- und Prüftechnik sowie Metallurgie und Werkstoffe ab. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Kunststoff- & Polymertechnik

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