Chamber-Accumulation Extension Via In-Situ Passivation

WO2020264054 Art A1 30. Dezember 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020264054
Aktenzeichen: EP20833330
Anmeldetag: 24. Juni 2020
Veröffentlichung: 30. Dezember 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/455C23C16/505

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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