Surface treatment apparatus and method for surface treatment of patterning devices and other substrates

WO2021001092 Art A1 7. Januar 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021001092
Aktenzeichen: EP20728496
Anmeldetag: 28. Mai 2020
Veröffentlichung: 7. Januar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/67G03F1/82

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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