Charged particle beam device

WO2021001935 Art A1 7. Januar 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021001935
Aktenzeichen: EP19936539
Anmeldetag: 2. Juli 2019
Veröffentlichung: 7. Januar 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/04H01J37/141H01J37/147

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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