Photoresist resin, method for producing photoresist resin, photoresist resin composition, and method for forming pattern
WO2021002212
Art A1
7. Januar 2021
Anmelder: DAICEL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021002212
- Aktenzeichen
- EP20834263
- Anmeldetag
- 18. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 7. Januar 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F20/10C08F220/10G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DAICEL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Daicel Corporation
Daicel Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das Celluloseacetat, Airbag-Gasgeneratoren und Spezialchemikalien herstellt.
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