Mask structure and fcva device
WO2021004331
Art A1
14. Januar 2021
Anmelder: BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021004331
- Aktenzeichen
- EP20837630
- Anmeldetag
- 30. Juni 2020
- Veröffentlichung
- 14. Januar 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/04C23C14/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Beijing NAURA Microelectronics Equipment
Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.
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